Das KIVOS-Konzept

KIVOS ist ein sehr flexibles, modulares Konzept für Plasmasysteme. Diese Systeme sind in den verschiedensten Anwendungsbereichen wie zum Beispiel Feinreinigung und Aktivierung von Oberflächen, reaktivem Ionenätzen (RIE) und Beschichtung (PECVD, PVD) einsetzbar. Das Konzept erlaubt AURION die kostengünstige Fertigung von hochentwickelten Produkten zu günstigen Preisen. Von diesem Preisvorteil profitieren unsere Kunden. Ein weiterer Vorteil ist, daß ein einziges System für ganz unterschiedliche Applikationen eingesetzt werden kann.

Die Grundidee dieses Konzeptes ist es, möglichst viele Komponenten einer Anlage leicht austauschbar zu machen. Das bedeutet sowohl untereinander austauschbar, als auch durch neue Komponenten ersetzbar, zum Beispiel für eine neue Anwendung.

Wie die Skizze unten zeigt, ist das Grundelement der Prozesskammer ein würfelförmiger Edelstahlrahmen. An diesen Rahmen werden sechs Metallplatten (Module), welche verschiedene Funktionen erfüllen, angebracht. Die Module sind aus Edelstahl oder Aluminium, je nach Anwendung.

Wegen der gleichen Abmessungen aller Module (Würfelform !!!) ist es ohne großen Aufwand möglich, diese untereinander oder gegen andere Komponenten auszutauschen. So muß für eine geringfügig geänderte Applikation, welche vielleicht nur zwei neue Flansche oder eine andere Kammertür benötigt, nicht gleich eine völlig neue Prozesskammer angeschafft werden. In manchen Fällen reicht es sogar aus, zwei oder drei Module untereinander auszutauschen.

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Des weiteren kann der Kunde zwischen verschiedenen Plasmaquellen (DC, MF, HF oder MW), Pumpen usw. wählen. Die Auslegung des Systems hängt alleine von der Anwendung ab - alles ist leicht modifizierbar.

AURION bietet zur Zeit drei Standard-Vakuumkammern an. Andere Größen sind aber auf Wunsch ebenfalls lieferbar.

Das komplette System inklusive Pumpe(n), Steuerung, Generator usw. ist auf einem Gestell montiert, welches eine maximale Standfläche von 1,5m² benötigt. Die Gesamthöhe eines Systems hängt im wesentlichen von der Kammergröße ab. Sollten Sie an einem auf diesem Konzept basierenden System interessiert sein, zögern Sie nicht, mit uns Kontakt aufzunehmen.

 

TECHNISCHE DATEN UND DETAILS

VAKUUMKAMMER

Die KIVOS-Vakuumkammer ist zur Zeit in drei Standardgrößen lieferbar:

  Abmessungen (innen)  Kammervolumen
KIVOS 350 350 x 350 x 350 mm 0,043 m³
KIVOS 500 500 x 500 x 500 mm 0,125 m³
KIVOS 750 750 x 750 x 750 mm 0,422 m³
 

 

Für alle Größen gilt:

Rahmenmaterial: Edelstahl
Modulmaterial: Aluminium oder Edelstahl
Dichtungen: VITON
Leckrate: < 5×10-5 mbar×l/s
Flansche: nach Kundenspezifikation
 


Auf speziellen Kundenwunsch fertigen wir auch jede andere Größe bis max. 1m³ Kammervolumen.

KAMMER-EINBAUTEN

Die Einbauten in die Vakuumkammer, welche zur Aufnahme und zum Handling der zu behandelnden Substrate dienen, werden nach Kundenspezifikation konstruiert und gefertigt.

GESTELL

files/aurion/images/plasma-alt/kivos500.jpgAURION liefert seine Plasmasysteme standardmäßig auf einem passenden Gestell montiert, welches alle Komponenten (Kammer, Pumpstand, Generatoren, Steuerung) aufnehmen kann. Dieses Gestell ist aufgrund seiner Profil-Bauweise sehr flexibel und leicht zu modifizieren. Auf Wunsch wird eine Reinraumverkleidung mitgeliefert.



KIVOS 500 (ohne Verkleidung)

VAKUUMERZEUGUNG

Der Pumpstand zur Vakuumerzeugung wird speziell für die jeweilige Anwendung ausgelegt. Hierzu bedient sich AURION aller Arten von Vakuumpumpen, welche von kompetenten Zulieferern bezogen werden. Folgende Pumpen werden in den meisten Fällen eingesetzt:

  • Drehschieberpumpen mit einem Nennsaugvermögen von max. 2,5 bis 250 m³/h und einem erreichbaren Enddruck von 5×10-3 mbar.
  • Wälzkolbenpumpen (in Verbindung mit den oben genannten Drehschieberpumpen) für höheres Saugvermögen (> 250 m³/h) im gleichen Druckbereich.
  • Turbomolekular- und Turbo-Drag-Pumpen mit einem Nennsaugvermögen von max. 33 bis 2100 l/s und einem erreichbaren Enddruck von < 1×10-6 mbar (in der KIVOS-Vakuumkammer).

Alle Pumpentypen stehen sowohl in Standard- als auch in Korrosivgasausführung zur Verfügung.

GASVERSORGUNG

Es werden elektronische Gasfluß-Regler für die verschiedensten Gase eingesetzt. Typische maximale Durchflußmengen sind 20 bis 500 sccm/min.

DRUCKMESSUNG

Die Druckmessung erfolgt abhängig von Druckbereich und Prozeßgas mit den jeweils passenden Meßröhren.

PLASMAGENERATOREN

AURION liefert komplette Plasmaquellen oder auf Wunsch auch einzelne Komponenten. Vor allem im Bereich der Hochfrequenz (13,56 MHz) verfügt AURION über hohe Kompetenz und eine umfangreiche Angebotspalette.

Bezüglich der Generatoren greifen wir flexibel auf die Produkte der etablierten Hersteller zurück. Folgende Frequenzen und Leistungsbereiche werden bei AURION standardmäßig zur Plasmaerzeugung genutzt.

DC: max. 0,5 - 20 kW
MF (40 kHz): max. 1,25 - 10 kW
HF (13,56 MHz): max. 0,3 - 10 kW
MW (2,54 GHz): max. 0,3 - 6 kW
 

STEUERUNG

Unsere Anlagensteuerungen basieren auf einem von AURION selbst entwickelten CAN-Bus-Konzept, mit dem sich auch hochkomplexe Regelungsanforderungen modular realisieren lassen.